6-ジブチルアミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール真空蒸着膜構造に及ぼす成膜速度の影響
6-ジブチルアミノ-1,3,5-トリアジン-2,4-ジチオール真空蒸着膜構造に及ぼす成膜速度の影響
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沉积速率对6-二丁基氨基-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇真空沉积薄膜结构的影响
DOI：
10.1295/koron.59.548
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发表时间：
2002
影响因子：
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通讯作者：
英俊 平原
中科院分区：
文献类型：
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作者：
一孝 鈴木;邦夫 森;英俊 平原
真空蒸着法により, 成膜速度を変えて得られる6-ジブチルアミノ-1, 3, 5-トリアジン-2, 4-ジチオール (DB) の被膜を鉄 (Fe) 基板に作製した. 膜厚は鉄表面近傍の被膜構造を調査するために, 水晶振動子によりモニターし, 数nmの膜厚とした. 成膜速度は融点前後で異なり, 融点以上で指数関数的に増加することがわかった. また, 成膜速度と蒸発源温度の逆数とのアレニウスプロットから, DBの蒸発エネルギーを算出したところ, 金属との化学吸着反応や重合反応の活性化エネルギーより小さいことがわかった. しかしながら鉄表面近傍のDB被膜には, 化学吸着反応や重合反応が起こっていることが示され, Fe表面のヒドロキシル基がこの反応に重要な役割を果たしていることが示された. また, 成膜速度 (入射分子数) によるDBの成膜構造を調べたところ, 分子数が増加するに伴い, 重合反応性が向上することがわかった. また, 基板清浄度による成膜構造を調べたところ, 未清浄Fe表面では, 分子数の増加に伴い, 重合反応性は分子数に相関はなく, 基板との化学吸着性と相関があり向上することがわかった. 入射分子数によるDBの反応性の違いは, 基板面に形成するヒドロキシル基が関与して化学吸着したメルカプチド結合による核形成と, 入射DBの表面拡散運動による分子衝突の確率の違いにより左右されることがXPS解析から明らかとなった.