ナノホールレジストマスクを用いたNV センタ配列の作製
ナノホールレジストマスクを用いたNV センタ配列の作製
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使用纳米孔抗蚀剂掩模制造 NV 中心阵列
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
F. Jelezko，大島武，品田高宏，川原田洋，磯谷順一，谷井孝至
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小池悟大，東又格，寺地徳之，小野田忍，稲葉優文，P. Balasubramanian;B. Naydenov;F. Jelezko，大島武，品田高宏，川原田洋，磯谷順一，谷井孝至
