T.Fukumori and K.Futagami: "An Xーray monochromator system using successive reflection and its application to measurements of diffraction curves of annealed GaAs wafers" J.Applied Crystallography. 22. 334-339 (1989)
T.Fukumori and K.Futagami: "An Xーray monochromator system using successive reflection and its application to measurements of diffraction curves of annealed GaAs wafers" J.Applied Crystallography. 22. 334-339 (1989)
复制标题
T.Fukumori 和 K.Futagami：“使用连续反射的 X 射线单色仪系统及其在退火 GaAs 晶片衍射曲线测量中的应用”J.Applied Crystallography 22. 334-339 (1989)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
