Materials Engineering for High-k Gate Stack Technology

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高 k 栅极堆叠技术的材料工程

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Ext.Abst. of 2004 Int. Workshop on Dielectric Thin Films for Future ULSI Devices - Science and Technology (IWDTF)
影响因子：
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通讯作者：
A.Toriumi
A.Toriumi
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K.Kita;K.Kyuno;A.Toriumi;I.V Ignatiev;A.Toriumi

文献摘要

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