収束電子回折法によるSiの電子密度分布解析
収束電子回折法によるSiの電子密度分布解析
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使用会聚电子衍射法分析 Si 的电子密度分布
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小形曜一郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuuji TUJIKO;Makoto KAWAMURA;太田 泰雄;Yasuo OHTA;Ralf Theissmann;Kenji Tsuda;Ralf Theissmann;Kenji Tsuda;Takayuki Akaogi;Takayuki Tajiri;小形曜一郎
