Effect of Mo content on the structure and mechanical properties of TiAlMoN films deposited on WC–Co cemented carbide substrate by magnetron sputtering
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DOI：
10.1016/j.ijrmhm.2015.04.016
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发表时间：
2015-09
影响因子：
3.6
通讯作者：
Ke Yang;Xiang Guang;H. Zhao;H. Fan;Jun Wang;Hui Wang;H. Du
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ke Yang;Xiang Guang;H. Zhao;H. Fan;Jun Wang;Hui Wang;H. Du
