In-situ Observation of Nitriding Processes of Deposited-Ti Thin Films due to Ion Implantation in an Analytical Transmission Electron Microscope
In-situ Observation of Nitriding Processes of Deposited-Ti Thin Films due to Ion Implantation in an Analytical Transmission Electron Microscope
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在分析透射电子显微镜中原位观察离子注入沉积钛薄膜的氮化过程
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Fujino
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Kasukabe;Y.Chen;S.Yamamoto;M.Yoshikawa;Y.Fujino
