Plasma-Assisted Chemical Process for NO Control
Plasma-Assisted Chemical Process for NO Control
复制标题
用于 NO 控制的等离子体辅助化学工艺
DOI：
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Z. Kravets
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Toshiaki Yamamoto;Chen;M. Beltran;Z. Kravets
