新型窄带隙聚方酸菁的合成与光电性质

新型窄带隙聚方酸菁的合成与光电性质
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DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
材料科学与工程学报
影响因子:
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通讯作者:
WANG Cheng-zhe,SHI Min-min,CHEN Hong-zheng(MOE Key
WANG Cheng-zhe,SHI Min-min,CHEN Hong-zheng(MOE Key
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
王承哲;施敏敏;陈红征;WANG Cheng-zhe,SHI Min-min,CHEN Hong-zheng(MOE Key

文献摘要

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