65nm CMOSプロセスを用いた偏光計測イメージセンサの性能向上
65nm CMOSプロセスを用いた偏光計測イメージセンサの性能向上
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使用 65nm CMOS 工艺提高偏振图像传感器的性能
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
太田淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
宍戸三四郎;野田俊彦;笹川清隆;徳田崇;太田淳
