Threefold atmospheric-pressure annealing for suppressing graphene nucleation on copper in chemical vapor deposition
Threefold atmospheric-pressure annealing for suppressing graphene nucleation on copper in chemical vapor deposition
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化学气相沉积中抑制铜上石墨烯成核的三重常压退火
DOI：
10.7567/jjap.53.095101
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发表时间：
2014
影响因子：
1.5
通讯作者：
Yuki Matsuoka and Masamichi Yoshimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Seiya Suzuki;Takashi Nagamori;Yuki Matsuoka and Masamichi Yoshimura
