K.Furukawa, Y.C.Liu, D.W.Gao, H.Nakashima, K.Uchino, K.Muraoka, H.Tsuzuki: ""Observation of Si Cluster Formation in SiO_2 Films through Annealing Process using x-ray Photoelectron Spectroscopy and Infrared Techniques"" Appl.Phys.Lett.Vol.72, No.6. 725-727
K.Furukawa, Y.C.Liu, D.W.Gao, H.Nakashima, K.Uchino, K.Muraoka, H.Tsuzuki: ""Observation of Si Cluster Formation in SiO_2 Films through Annealing Process using x-ray Photoelectron Spectroscopy and Infrared Techniques"" Appl.Phys.Lett.Vol.72, No.6. 725-727
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K.Furukawa、Y.C.Liu、D.W.Gao、H.Nakashima、K.Uchino、K.Muraoka、H.Tsuzuki：“使用 X 射线光电子能谱和红外技术通过退火过程观察 SiO_2 薄膜中 Si 团簇的形成”
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