シリコン表面における水分子の散乱機構解析
シリコン表面における水分子の散乱機構解析
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硅表面水分子散射机理分析
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小坪 祐介，杵淵 郁也，高木 周
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Anton Stephan;Frank Holzaepfel;Takashi Misaka;A. Hase;田中洋介;S. Taguchi;小坪 祐介，杵淵 郁也，高木 周
