Ge-Cu-Teアモルファス薄膜の相変化過程に及ぼすSi添加の影響
Ge-Cu-Teアモルファス薄膜の相変化過程に及ぼすSi添加の影響
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Si添加对Ge-Cu-Te非晶薄膜相变过程的影响
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小池淳一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
隅谷真志;鎌田俊哉;齊藤雄太;須藤祐司;小池淳一
