Ozone Formation by Photodissociation of Oxygen Molecule with a 193 nm Excimer Laser
Ozone Formation by Photodissociation of Oxygen Molecule with a 193 nm Excimer Laser
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使用 193 nm 准分子激光光解氧分子形成臭氧
DOI：
10.1021/jp962020m
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发表时间：
1997
影响因子：
2.9
通讯作者：
I. Tanaka
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yukiyo Niwa;A. Matsuzaki;S. Nishio;Hiroyasu Sato;I. Tanaka
利用ArF准分子激光器在193 nm处激发到舒曼-龙格带的氧分子的光解离，研究臭氧形成中的化学过程。在100 - 500 Torr的O2压力下的实验结果表明，臭氧的形成O + O2 + O2 → O3 + O2是非常迅速的，预解离O2 → O + O是一个速率决定过程。在22.1 °C时，O2 → O + O的预解离速率常数为6.40 × 10 ~（-5）cm ~ 2 J ~（-1）。
Chemical processes are studied in ozone formation by the photodissociation of oxygen molecule excited to the Schumann−Runge band at 193 nm with use of an ArF excimer laser. The experimental results at an O2 pressure of 100−500 Torr indicate that the ozone formation O + O2 + O2 → O3 + O2 is very rapid, that the predissociation O2 → O + O is a rate-determining process. The rate constant of the predissociation O2 → O + O is found to be 6.40 × 10-5 cm2 J-1 at 22.1 °C.