Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm for Optical Lithography
Mask Manufacturability Aware Post OPC Algorithm for Optical Lithography
复制标题
用于光学光刻的掩模可制造性感知后 OPC 算法
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Atsushi Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ahmed Awad;Atsushi Takahashi
对 OPC 复杂性进行建模以实现可制造性设计
影响因子：
2.7
作者：
Puneet Gupta;A. Kahng;S. Muddu;S. Nakagawa;Chul
通讯作者：
Chul