Nucleation Process During Excimer Laser Annealing of Amorphous Silicon Thin Films on Glass : A Molecular-dynamics Study
Nucleation Process During Excimer Laser Annealing of Amorphous Silicon Thin Films on Glass : A Molecular-dynamics Study
复制标题
玻璃上非晶硅薄膜准分子激光退火过程中的成核过程：分子动力学研究
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Motooka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Munetoh;T.Mitani;T.Kuranaga;T.Motooka
Si 固相外延的分子动力学模拟：生长机制
影响因子：
3.7
作者：
T. Motooka;K. Nisihira;S. Munetoh;K. Moriguchi;A. Shintani
通讯作者：
A. Shintani