Non-destructive depth profiling of FeSi_2 single crystals by synchrotron radiation excited XPS and XAS
Non-destructive depth profiling of FeSi_2 single crystals by synchrotron radiation excited XPS and XAS
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同步辐射激发XPS和XAS对FeSi_2单晶的无损深度分析
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F.Esaka;H.Yamamoto;et al.
