MBE growth and patterned backgating of electron–hole bilayer structures
MBE growth and patterned backgating of electron–hole bilayer structures
复制标题
电子空穴双层结构的 MBE 生长和图案化背栅
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Pepper
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Farrer;A. Croxall;K. D. Gupta;C. Nicoll;H. Beere;M. Thangaraj;J. Waldie;D. Ritchie;M. Pepper
