Exploring Topological Semi-Metals for Interconnects
Exploring Topological Semi-Metals for Interconnects
复制标题
探索互连的拓扑半金属
DOI：
10.3390/jlpea13010016
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发表时间：
2023
影响因子：
2.1
通讯作者：
Ghosh, Swaroop
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kundu, Satwik;Roy, Rupshali;Rahman, M. Saifur;Upadhyay, Suryansh;Topaloglu, Rasit Onur;Mohney, Suzanne E.;Huang, Shengxi;Ghosh, Swaroop
影响因子：
56.9
作者：
Xu, Su-Yang;Belopolski, Ilya;Hasan, M. Zahid
通讯作者：
Hasan, M. Zahid