高分子電解質修飾シリカ粒子を用いた単粒子膜作製における基板表面の親・疎水性の影響
高分子電解質修飾シリカ粒子を用いた単粒子膜作製における基板表面の親・疎水性の影響
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聚电解质改性二氧化硅颗粒制备单颗粒膜时基材表面亲水性和疏水性的影响
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
林 実樹，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nov Irmawati Inda;Masaya Fukumaru;Shiro Kiyoyama;Koichiro Shiomori;林 実樹，川喜田英孝，大渡啓介，森貞真太郎
