Contributions of N+, N-2(+), NO+ Ion Implantation to p-Type Conversion of ZnO:Al Films
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N 、N-2( )、NO 离子注入对 ZnO:Al 薄膜 p 型转化的贡献
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
1.5
通讯作者：
He, Zhijiang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Li, Zebin;Gao, Huanzhong;Liang, Rongqing;Ou, Qiongrong;Zhang, Shuyu;He, Long;Chang, Xijiang;Wu, Xiaojing;Wu, Zhonghang;He, Zhijiang
