酸化シリコン膜上にPDLで堆積された厚膜永久磁石のレーザ局所加熱による微細着磁

酸化シリコン膜上にPDLで堆積された厚膜永久磁石のレーザ局所加熱による微細着磁
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使用局部激光加热通过 PDL 沉积在氧化硅薄膜上的厚膜永磁体的精细磁化

DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
中野 正基
中野 正基
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
吾妻 範栄;田中 駿也;藤原 良元;進士 忠彦;清水 大;近藤 秀俊;山口 雄太;山下 昂洋;柳井 武志;福永 博俊;中野 正基

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