加藤 勇: "Fabrication of a-Si:H Film Using H_2/SiH_4 Plasma by Longitudinal Magnetic Field Applied MPCVD System (II)"第17回プラズマプロセッシング研究会プロシ-ディングス. P1-21. 141-144 (2000)
加藤 勇: "Fabrication of a-Si:H Film Using H_2/SiH_4 Plasma by Longitudinal Magnetic Field Applied MPCVD System (II)"第17回プラズマプロセッシング研究会プロシ-ディングス. P1-21. 141-144 (2000)
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Isamu Kato：“通过纵向磁场应用 MPCVD 系统使用 H_2/SiH_4 等离子体制备 a-Si:H 薄膜（II）”第 17 期等离子体处理研究组论文集（2000 年）。
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