多段ドライエッチングを用いたミリ波観測用シリコン素子の反射防止加工の開発
多段ドライエッチングを用いたミリ波観測用シリコン素子の反射防止加工の開発
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利用多级干法蚀刻进行毫米波观测用硅元件的防反射加工的开发
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
関本裕太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
長谷部孝;林佑;正光義則;新田冬夢;松尾宏;関本裕太郎
