Midori Kawamura: "Characterization of TiN films prepared by rf sputtering using metal and compound targets" Vacuum. 377-380 (1998)
Midori Kawamura: "Characterization of TiN films prepared by rf sputtering using metal and compound targets" Vacuum. 377-380 (1998)
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Midori Kawamura：“使用金属和化合物靶材通过射频溅射制备 TiN 薄膜的表征”真空。
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