Y.Abe, K.Kato, M.Kawamura and K.Sasaki: "Electrical Properties of Amorphous Rh Oxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering"Japanese Journal of Applied Physics. vol.39, no.1. 245-247 (2000)
Y.Abe, K.Kato, M.Kawamura and K.Sasaki: "Electrical Properties of Amorphous Rh Oxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering"Japanese Journal of Applied Physics. vol.39, no.1. 245-247 (2000)
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Y.Abe、K.Kato、M.Kawamura 和 K.Sasaki：“反应溅射制备的非晶态 Rh 氧化物薄膜的电性能”日本应用物理学杂志。
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