Characterization of CH3NH3PbI3-xClx Films Added with Ammonium Halides for Photoelectric Device Application
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添加卤化铵的 CH3NH3PbI3-xClx 薄膜用于光电器件应用的表征
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yasuhiro Shirahata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西尾 和記;今関 大輔;清水 亮太;一杉 太郎;Yasuhiro Shirahata
