Chemistry of Organosilicon Compounds. Part 292. An NMR Study of the Formation of Silyloxonium Ions by Using Tetrakis(3,5‐bis( trifluoromethyl)phenyl)borate as Counteranion.
Chemistry of Organosilicon Compounds. Part 292. An NMR Study of the Formation of Silyloxonium Ions by Using Tetrakis(3,5‐bis( trifluoromethyl)phenyl)borate as Counteranion.
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有机硅化合物化学。第 292 部分。使用四(3,5-双(三氟甲基)苯基)硼酸盐作为抗衡阴离子形成硅氧鎓离子的 NMR 研究。
DOI：
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发表时间：
1992
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Sakurai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Kira;T. Hino;H. Sakurai
