CMOS互換プロセスで作製したバレーフォトニック結晶
CMOS互換プロセスで作製したバレーフォトニック結晶
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采用 CMOS 兼容工艺制造的 Valley 光子晶体
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岩本敏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山口拓人;吉見拓展;関三好;大塚実;横山信幸;太田泰友;岡野誠;岩本敏
