(4)Electrodeposition of Metallic Particles at a Liquid/Liquid Interface: Controlled and Spontaneous Deposition to Follow the Nucleation Process
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(4)金属颗粒在液/液界面的电沉积：遵循成核过程的受控和自发沉积
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.L.M. Schroeder and R.A.W. Dryfe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.G. Booth;S. Y. Chang;A. Uehara;S.L.M. Schroeder and R.A.W. Dryfe
