X-ray characterization of crystal perfection and surface contamination in large-diameter silicon wafers
X-ray characterization of crystal perfection and surface contamination in large-diameter silicon wafers
复制标题
大直径硅片晶体完美度和表面污染的 X 射线表征
DOI：
10.1016/s1369-8001(02)00130-0
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Kawado
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Kawado
