ナノグレーティングチャネル構造MOSトランジスタの信頼性評価
ナノグレーティングチャネル構造MOSトランジスタの信頼性評価
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纳米光栅沟道结构MOS晶体管的可靠性评估
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
朱小莉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中川;根尾;青木;三村;Takuya Sakata;Hidenori Mimura;塙裕 一郎;惣田 崇志;杉野林志;X. Zhu;阿部俊幸;原紘司;朱小莉
