HCP Metal Electrodeposition from Concentrated Aqueous Solution using a Hydrophobic Anion

HCP Metal Electrodeposition from Concentrated Aqueous Solution using a Hydrophobic Anion
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使用疏水阴离子从浓水溶液中电沉积 HCP 金属

DOI:
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发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Kuniaki Murase
Kuniaki Murase
中科院分区:
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文献类型:
--
作者:
Shota Inoguchi;Atsushi Kitada;Kazuhiro Fukami;Kuniaki Murase

文献摘要

参考文献

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