ロイドのミラー干渉を用いた808nm励起用半導体レーザのビーム整形
ロイドのミラー干渉を用いた808nm励起用半導体レーザのビーム整形
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利用劳埃德镜干涉对 808nm 激发半导体激光器进行光束整形
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福嶋丈浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
木村啓三;生源寺類;大坪順次;平井 亜紀子,橋本 哲弥,吉森 久;Yasuhiro Tamayama;Masato SHIBUYA;松田豊稔,小田川裕之,川野光則;齋藤伸吾;福嶋丈浩
