Salt-Free Reduction of Tungsten Halides by Bis (trimethylsilyl) cyclohexadiene Derivatives
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双（三甲基硅基）环己二烯衍生物无盐还原卤化钨
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiromasa Tanahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsuhiro Kishi;Hajime Futaki;Souichiro Shimomura;Sarah C osentino;Massimiliano Zecca;Takashi Nozawa;Kenji Hashimoto and Atsuo Takanishi;Hiromasa Tanahashi
