Isamu Kato: "Deposition Mechanism of aーSi:H films Fabricated by Coaxialーlineーtype Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition" Bulletin of Science and Engineering Research Laboratory,Waseda University. 123. 1-12 (1989)
Isamu Kato: "Deposition Mechanism of aーSi:H films Fabricated by Coaxialーlineーtype Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition" Bulletin of Science and Engineering Research Laboratory,Waseda University. 123. 1-12 (1989)
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加藤勇：“同轴线型微波等离子体化学气相沉积法制备的a-Si:H薄膜的沉积机理”，早稻田大学科学与工程研究实验室通报，123. 1-12 (1989)。
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