Wet-Chemical Planarization of SiC Wafers for Advanced Optoelectronics Applications
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复制标题
用于先进光电应用的 SiC 晶圆湿法化学平坦化
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Pho Van Bui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takuya Kobayashi;and Atsushi Kawamoto;Bui Pho Van;Pho Van Bui
