RFマグネトロンスパッタリング法によって作製したMnドープITO薄膜の物性に対するアニール処理効果の評価

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退火处理对射频磁控溅射法制备Mn掺杂ITO薄膜物理性能的影响评价

DOI:
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发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
中村敏浩
中村敏浩
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
武久進太郎;川村亮人;北川彩貴;中村敏浩

文献摘要

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