Robust Mott-insulators of atomic-layer TMDs films studied by ARPES
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复制标题
ARPES 研究原子层 TMD 薄膜的鲁棒莫特绝缘体
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Sugawara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Soon Julian Wong;Oohora Koji;Uchihashi Takayuki;Hayashi Takashi;原野幸治;K. Sugawara
