Monitoring of electron density and wall deposit by curling probe during plasma process
Monitoring of electron density and wall deposit by curling probe during plasma process
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在等离子体过程中通过卷曲探针监测电子密度和壁沉积
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Nakamura and H. Sugai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Pandey;M. Imai;H. Kanematsu;S. Ikezawa;K. Nakamura and H. Sugai
