Heating Mechanism of Microwave Plasma Annealing for Crystallization of Amorphous Silicon
Heating Mechanism of Microwave Plasma Annealing for Crystallization of Amorphous Silicon
复制标题
非晶硅晶化微波等离子体退火加热机理
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Shiraki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Ashizawa;S. Ariizumi;M. Mitsui;K. Arimoto;J. Yamanaka;K. Nakagawa;T. Arai;T. Takamatsu;K. Sawano;Y. Shiraki
