低速電子誘起反応と極低温トンネル反応により合成したSiNxの電気特性評価
低速電子誘起反応と極低温トンネル反応により合成したSiNxの電気特性評価
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慢电子诱导反应和低温隧道反应合成SiNx电学性能评价
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小林 憲明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Sato;M.Mitsui;J.Yamanaka;K.Nakagawa;Y.Aoki;S.Sato;C.Miyata;小林 憲明
