実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)
実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)
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利用实值遗传算法计算CVD设备沉积速率分布的方法（3）
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
江間義則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高橋崇宏;稲垣妙香;成合真吾;児玉純一;荒川正幹;江間義則
