プラズマ酸化膜介在層を有するSiO2/InAlN界面の特性
プラズマ酸化膜介在層を有するSiO2/InAlN界面の特性
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具有等离子体氧化物介入层的SiO2/InAlN界面特性
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
北嶋翔平，赤澤正道
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Matys;B. Adamowicz;A. Domanowska;A. Michalewicz;R. Stoklas;M. Akazawa;Z. Yatabe;and T. Hashizume;北嶋翔平，赤澤正道
