Technology remapping based on multiple solutions for post-mask functional ECO
Technology remapping based on multiple solutions for post-mask functional ECO
复制标题
基于多种解决方案的后掩模功能ECO的技术重新映射
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Numa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Kabata;T. Hirose;N. Kuroki;and M. Numa
