極薄シリコン酸化膜の均(3)…シリコン単結晶表面のステップ/テラス構造制御
極薄シリコン酸化膜の均(3)…シリコン単結晶表面のステップ/テラス構造制御
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超薄氧化硅薄膜的均匀性（3）…硅单晶表面的台阶/梯形结构控制
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山部紀久夫・荒木浩司3・磯貝宏道3・・竹田隆二13・松下嘉明3・大沢敬一朗1・木暮洋輔1・蓮沼隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
出川;青木;樋口;猪川;高橋;山部紀久夫・荒木浩司3・磯貝宏道3・・竹田隆二13・松下嘉明3・大沢敬一朗1・木暮洋輔1・蓮沼隆
