A.HIRATA and M.YOSHIKAWA: "Effects of Process Pressure on Diamond Growth by Arc Discharge Plasma Jet CVD Method" 2nd Int.Conf.on the Applications of Diamond films and Related Materials. 469-474 (1993)
A.HIRATA and M.YOSHIKAWA: "Effects of Process Pressure on Diamond Growth by Arc Discharge Plasma Jet CVD Method" 2nd Int.Conf.on the Applications of Diamond films and Related Materials. 469-474 (1993)
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A.HIRATA 和 M.YOSHIKAWA：“工艺压力对电弧放电等离子喷射 CVD 方法金刚石生长的影响”第 2 届国际会议上金刚石薄膜和相关材料的应用。
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