S.Takami: "Monolayer nitridation of Silicon surface by a dry chemical process using dimethylhydrazine or ammonia" Applied Physics Letters. (in press). (1995)
S.Takami: "Monolayer nitridation of Silicon surface by a dry chemical process using dimethylhydrazine or ammonia" Applied Physics Letters. (in press). (1995)
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S.Takami：“使用二甲基肼或氨通过干化学工艺对硅表面进行单层氮化”应用物理快报。
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