電界スラリー制御技術における電界条件とSiC 基板の研磨特性との関係
電界スラリー制御技術における電界条件とSiC 基板の研磨特性との関係
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电场浆料控制技术中电场条件与SiC衬底抛光特性的关系
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
池田洋，泉 泰秀，久住孝幸，赤上陽一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
尹成圓;鈴木健太;廣島洋;Takeshi Yamaguchi;池田洋，泉 泰秀，久住孝幸，赤上陽一
